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(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20212310 6711.1 (22)申请日 2021.12.10 (73)专利权人 江苏力波兴水务科技有限公司 地址 211805 江苏省南京市浦口区兰花路 19号 (72)发明人 孙朋飞 徐徐 高丽 王苏琴 (74)专利代理 机构 南京中律知识产权代理事务 所(普通合伙) 32341 代理人 李建芳 (51)Int.Cl. C02F 9/04(2006.01) C02F 101/18(2006.01) C02F 103/16(2006.01) (54)实用新型名称 一种电子电镀含氰废水的处 理装置 (57)摘要 本申请公开了一种电子电镀含氰废水的处 理装置, 其包括调配池、 反应络合池和沉淀池; 反 应络合池包括池体和设置在池体内的溢流板, 溢 流板将池体的内腔分割为反应腔; 位于池体两端 的反应腔分别称为首级反应腔和末级反应腔; 在 反应腔内设置有将反应腔分割为进水腔和出水 腔的折流板, 在折流板的下端设置有连通进水腔 和出水腔的过流孔; 废水泵的进口经进水管连通 调配池, 出口连通首级反应腔, 末级反应腔连通 沉淀池; 碱液罐和一级 氧化剂罐均连接到进水管 上, 加药罐连通首级反应腔, 沉淀池的底部经污 泥泵连通压滤机。 本申请取消沉淀池内污泥返回 反应络合池的结构, 使部分污泥保持在反应络合 池内, 延长污泥在反应络合池的时间, 提高药剂 的利用效率。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 216404054 U 2022.04.29 CN 216404054 U 1.一种电子电镀含氰废水的处理装置, 其特征在于, 包括调配池、 反应络合池、 沉淀池、 碱液罐、 一级氧化剂罐和 加药罐; 该反应络合池包括一池体, 该池体沿一水平轴线方向延伸, 在该池体内设置有至少两 块溢流板, 该至少两块溢流板与水平轴线相垂 直、 且沿该水平轴线方向间隔设置, 各溢流板 的底部密封地连接在池体的池底, 且各溢流板的顶部均低于池体的顶部, 使溢流板的顶部 形成溢流部; 沿该水平轴 线方向, 各溢流板将池体的内腔分割为若干个反应腔; 沿该水平轴线方向, 将位于池体两端的反应腔分别称为首级反应腔和末级反应腔; 在每个反应腔内均设置有一折流板, 折流板的顶部与池体的顶部等高, 折流板的底部 与池体底面之间具有距离; 折流板将反应腔分割为进水腔和出水腔, 沿池体内废水 的流动 方向, 其中进 水腔位于出水腔的上游侧, 在折流板的下端设置有 呈通孔状的过流孔, 该过流 孔连通进水腔和出 水腔; 废水泵的进口经进水管连通调配池, 废水泵的出口经出水管连通反应络合池的首级反 应腔, 反应络合池的末级反应腔经自流管连通沉淀池; 该碱液罐和一级氧化剂罐均连接到 该进水管上, 该加药 罐连通首级反应腔, 该加药 罐用于添加硫酸 亚铁溶液; 沉淀池的底部经污泥 泵连通压滤机 。 2.根据权利要求1所述的处 理装置, 其特 征在于, 还包括二级氧化剂罐和硫酸罐, 该二级氧化剂罐和硫酸罐均连通反应络合池的中间 部。 3.根据权利要求1所述的处 理装置, 其特 征在于, 对应于每个反应腔, 在池体的底部均设置有一向下凹陷的沉泥槽, 折流板的底部向下 伸入到沉泥槽内, 且折流板与沉泥槽的底面之间具有距离; 在每个沉泥槽的底部均设置有 一出泥孔, 该 出泥孔经污泥 泵连通压滤机 。 4.根据权利要求1所述的处 理装置, 其特 征在于, 在出水管上安装有静态混合器。 5.根据权利要求1所述的处 理装置, 其特 征在于, 还包括一膜过滤器, 沉淀池经过滤泵连通膜过滤器的进水口, 膜过滤器的浓水出口连 通反应络合池的中间部 。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 216404054 U 2一种电子电镀含氰废水的处理装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及一种电子电镀含氰废水的处 理装置。 背景技术 [0002]电子电镀废水包括工件表面清理、 电镀、 刻蚀、 钝化等处理后产生各种废水, 为便 于处理, 一般将各类废水分别处理, 以提高处理效果, 对于其中的含氰废水, 其除了含有氰 离子外, 还含有大量的金属离子, 这些金属离子需要进 行回收固化处理, 而且其中的金银等 贵金属还有 进行回收利用, 以降低生产成本 。 [0003]在进行含氰废水的处理过程中, 会产生一定量的污泥, 这些污泥一般是在废水处 理的最后工序进行沉降分离, 分离出的污泥进行过滤, 为了提高药剂的利用率, 均设置有污 泥回流设施, 将沉淀池的部分污泥返回的反应池内, 这实际上增 加了废水处 理的运行成本 。 实用新型内容 [0004]为解决上述问题, 本实用新型提出了一种电子电镀含氰废水的处理装置, 其包括 调配池、 反应络合池、 沉淀池、 碱液 罐、 一级氧化剂罐和 加药罐; [0005]该反应络合池包括一池体, 该池体沿一水平轴线方向延伸, 在该池体内设置有至 少两块溢流板, 该至少两块溢流板与水平轴线相垂 直、 且沿该水平轴线 方向间隔设置, 各溢 流板的底部密封地连接在池体的池底, 且各溢流板的顶部均低于池体的顶部, 使溢流板的 顶部形成溢流部; [0006]沿该水平轴线方向, 各溢流板将池体的内腔分割为若干个反应腔; 沿该水平轴线 方向, 将位于池体两端的反应腔分别称为首级反应腔和末级反应腔; [0007]在每个反应腔内均设置有一折流板, 折流板 的顶部与池体的顶部等高, 折流板的 底部与池体底面之间具有距离; 折流板将反应腔分割为进水腔和出水腔, 沿池体内废水 的 流动方向, 其中进 水腔位于出水腔的上游侧, 在折流板的下端设置有 呈通孔状的过流孔, 该 过流孔连通进水腔和出 水腔; [0008]废水泵的进口经进水管连通调配池, 废水泵的出口经出水管连通反应络合池的首 级反应腔, 反应络合池的末级反应腔经自流管连通沉淀池; 该碱液罐和 一级氧化剂罐均连 接到该进 水管上, 该加药罐连通首级反应腔, 该加药罐用于添加硫酸亚铁溶液; 沉淀池的底 部经污泥 泵连通压滤机 。 [0009]在本申请工作时, 首先将含氰废水排入到调配池内, 对各种含氰废水进行调节, 然 后调配池内的含氰废水经废水泵排入到反应络合池内, 同时将碱液和次氯酸钠溶液分别经 碱液罐和一级氧化剂罐添加到进 水管内, 将含氰废水的pH值调节在11 ‑13之间, 进行一级氧 化, 使氰离子氧化为氰酸离子。 并将硫酸亚铁经加药罐投入到反应络合池内, 对其中的金属 离子进行络合, 使其 沉淀。 [0010]在反应络合池内, 随着反应的进行, 废水中的杂质逐渐沉淀到反应络合池的底部, 控制沉泥槽内污泥的量, 使其向上超过折流板的底部、 但位于过流孔的下侧, 使废水能够经说 明 书 1/4 页 3 CN 216404054 U 3
专利 一种电子电镀含氰废水的处理装置
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